高溫燃?xì)馑笫礁G的操作多取決于生產(chǎn)技術(shù)的協(xié)調(diào)與經(jīng)驗(yàn)積累，操作者實(shí)際操作中應(yīng)結(jié)合每個(gè)窯的特性進(jìn)行靈活調(diào)節(jié)，才能燒出高質(zhì)量的作品。由于陶藝作品制作時(shí)采用的坯釉不同以及所需要的效果不同，梭式窯窯爐的燒成過程也不會(huì)相同，先僅以景德鎮(zhèn)常見的高溫還原燒成操作作為例說明。再此類燒城中一般可將整個(gè)過程分為以下幾個(gè)階段：
1.低溫水蒸發(fā)期 點(diǎn)火一般應(yīng)遵循“先里后外”和“火等氣”原則。現(xiàn)將靠梭式窯窯門邊的燒嘴風(fēng)門調(diào)小，再開啟燒嘴的進(jìn)氣閥門，即可在燒嘴口上用明火點(diǎn)燃噴嘴，順次開—閥門點(diǎn)—燒嘴。該階段為預(yù)熱階段，主要是排除殘留水分。
2.氧化分解期 坯體在這階段里主要是排除結(jié)構(gòu)水，有機(jī)物進(jìn)行氧化燃燒，碳酸鹽進(jìn)行分解，升溫也不能過急，升溫速率應(yīng)控制在一定范圍內(nèi)，整個(gè)階段一般需持續(xù)3小時(shí)左右。如果太快則可能因梭式窯坯體氧化不完全形成坯體或釉面針孔等缺陷。在該階段梭式窯燒嘴全部點(diǎn)燃，窯門需關(guān)緊，煙囪閘門隨燃料的增加而逐漸拉開，使窯內(nèi)維持一定負(fù)壓。
3.高溫強(qiáng)還原期 溫度達(dá)到1000攝氏度時(shí)進(jìn)行強(qiáng)還原操作，此階段需維持1小時(shí)左右。由強(qiáng)氧化氣氛轉(zhuǎn)化為強(qiáng)還原氣氛的溫度把握較為關(guān)鍵，此時(shí)對(duì)應(yīng)的溫度成為臨界溫度。臨界溫度的選擇主要根據(jù)釉面始熔溫度決定，一般來說臨界溫度在釉面始熔溫度前100—150攝氏度。生產(chǎn)中如果臨界溫度控制偏低，產(chǎn)品因還原過早而氧化不足，容易引起沖泡；臨界溫度控制偏高，產(chǎn)品會(huì)因還原過遲而發(fā)黃。
4.高溫弱還原期 此階段需維持約1.5小時(shí)，隨著梭式窯窯爐燒成溫度的升高，釉面熔融程度加劇，氣氛對(duì)顏色軸的發(fā)色影響減弱，可將強(qiáng)還原氣氛轉(zhuǎn)為弱還原氣氛。
5.高火保溫期 此階段，梭式窯窯內(nèi)還原氣氛可更弱些，升溫速度調(diào)慢。高火保溫主要目的是為了拉平制品及窯爐內(nèi)部的溫差，從而使產(chǎn)品各部分物理化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行得同樣完全，組織結(jié)構(gòu)趨于均一，使梭式窯窯內(nèi)不同部位的產(chǎn)品處于接近相等受熱條件。
6.冷卻降溫期 普通藝術(shù)瓷在梭式窯中燒成后一般讓其自然降溫冷卻，但也可以根據(jù)具體要求通過窯門和煙囪的閘板來調(diào)節(jié)冷卻時(shí)的快慢。一般來說。900攝氏度以前快速冷卻有利于陶瓷釉面的析晶，可以增加釉面析晶或無光效果。